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基于Mask光场相机关键技术研究

2016年6月13日 / xiaochun, liu / 合作项目

本项目通过国外资料的收集与整理,探索基于光掩膜(Mask)光场成像原理、模型与方法,研究掩膜板设计与制造方法,解决目前还没有光场视频系统的空白。主要研究内容如下:
1、通过文献调研,找出计算成像领域发展的脉络,并梳理“光场技术”的发展;
2、建立光学模型,并设计出今后的CAD图纸,整理现在流行的设计思路以及算法思路,寻找待突破的创新点;
3、选择合适的摄像系统,并制作相匹配的掩膜元件;
4、进行光场重建算法的研究,并利用C++或者Matlab完成光场图像的重建。

项目指导老师:徐熙平
项目成员:刘笑纯,徐杰郑崇辉

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